性能指标:
1、分辨率:高真空模式3.0nm at 30kV,10nm at 3kV;低真空模式3.0nm at 30kV,12nm at 3kV;环境真空模式3.0nm at 30kV;背散射电子像4.0nm at 30kV
2、样品室压力:高达2600Pa
3、样品台移动范围:X=Y=50mm
4、冷台:温度检测精度0.5°C
5、操作温度范围为:-25°C~25°C.
设备用途:
纳米材料、复合材料、陶瓷材料、金属材料、高分子材料、薄膜材料、建筑材料、生物材料、电子材料、导体与非导体地矿、考古等表面微观形貌观察及成分分析,岩石薄片阴极发光、区分矿物、成岩作用、判断物源、常规元素分析。